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IBM推出全球首款亚1纳米芯片技术 三维纳米堆叠架构晶体管密度翻倍

时间:2026年6月25日

地点:美国纽约约克镇高地(IBM研究院总部)

人物:IBM研究院、IBM研究院院长Jay Gambetta

事件详情:2026年6月25日,IBM正式发布全球首款亚1纳米(sub-1nm)芯片技术,将半导体工艺节点推进至0.7纳米的新尺度。该芯片采用三维纳米堆叠架构,在指甲盖大小的芯片上集成近1000亿个晶体管,密度约为2纳米芯片的两倍。相比IBM 2纳米节点,性能最高提升50%,能效提升70%。

背景:全球半导体行业长期以来遵循摩尔定律演进,但传统芯片微缩已逼近物理极限。IBM自2015年起持续在先进制程领域深耕,此次突破证明即便芯片器件尺寸逼近原子级别,性能与能效仍可持续提升,最快五年内可实现量产。

影响:

  • 对半导体行业而言,纳米堆叠架构开创了三维芯片设计新范式,为超越传统CMOS微缩极限提供了可行路径。
  • 对AI计算领域而言,1000亿晶体管集成度和70%能效提升将大幅缓解大模型训练和推理的算力瓶颈。
  • 对产业链而言,全球先进制程竞争格局或将重新洗牌。

总结:IBM亚1纳米芯片技术的发布是半导体行业进入原子尺度的里程碑事件,摩尔定律以全新的三维维度继续演进。

参考来源:

  • https://techcrunch.com/2026/06/25/ibm-debuts-sub-1-nanometer-chip-technology/
  • https://newsroom.ibm.com/2026-06-25-ibm-debuts-worlds-first-sub-1-nanometer-chip-technology