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上海AI实验室突破光刻胶技术,AI加速芯片材料研发进程

时间:2026年5月13日

地点:中国上海

人物:上海人工智能实验室、厦门大学、苏州实验室

事件详情:上海人工智能实验室联合厦门大学、苏州实验室等单位,基于"书生"科学大模型和"书生"科学发现平台,成功研制出高纯度、高一致性、高效率的KrF(氟化氪)光刻胶树脂。这一突破使高端光刻胶树脂的稳定制备不再依赖极少数国外企业的"黑箱能力",探索出一条可标准化、快速迭代的芯片材料研发新路径。

背景:光刻胶是芯片制造的核心材料之一,其质量直接影响芯片的性能和成品率。此前,高端光刻胶树脂长期被国外企业垄断,成为制约国内芯片产业发展的关键瓶颈之一。此次突破是在新一代人工智能国家科技重大专项支持下完成的。

影响:
- 打破了高端光刻胶树脂对国外企业的依赖,提升了国产芯片产业链的自主可控能力
- 建立了从AI决策到自动化合成的闭环研发体系,为其他芯片材料的研发提供了新范式
- 批次间一致性持续上升,支撑多批次自动化合成和性能验证

总结:此次突破标志着AI技术在芯片材料研发领域取得重大应用成果,证明了AI for Science(科学智能)在关键工业材料研发中的巨大价值。通过AI大模型与自动化合成技术的结合,大幅缩短了材料研发周期,降低了研发成本,为中国芯片产业的自主可控发展提供了有力支撑。

参考来源:
https://k.sina.com.cn/article_7857201856_1d45362c001905etky.html
http://finance.sina.com.cn/stock/t/2026-05-13/doc-inhxsxzs1005359.shtml